半導體吸收27%工業(yè)用水，高頻科技先進超純工藝助力企業(yè)降本增效

近年來,“降本增效”成為半導體行業(yè)關(guān)鍵詞之一。半導體是技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè),工藝制程高度復雜精確,且能源消耗高,生產(chǎn)一顆芯片大約需要3000多道復雜的工序,每一道工序都需要大量能源,工廠全天24小時、全年365天運轉(zhuǎn),整體能耗龐大,產(chǎn)業(yè)運維成本高昂。隨著半導體行業(yè)開始進入“后摩爾定律時代”,資源利用率已經(jīng)成為制約半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的核心競爭力之一。

半導體吸收27%工業(yè)用水,水效率亟待提升

我國半導體產(chǎn)業(yè)近年來發(fā)展迅速,但資源利用率仍不高。半導體的制造過程中需要消耗掉大量的水源,尤其是半導體制程需要使用超純水,而制作超純水的過程需使用幾倍的自來水,用水量相當驚人,與美國相比,用水量是美國的三倍。事實上,中國半導體行業(yè)吸收了27%的工業(yè)用水。

我國擁有世界 20% 的人口,但僅擁有全球 7% 的水資源,是一個人均水資源相對貧乏的國家,工廠的節(jié)水效能和用水效率亟待提升,綠色水工廠的打造也刻不容緩。

半導體制程越先進,能源消耗越高

半導體制程越先進,對超純水的消耗也就越大。在90nm工藝節(jié)點制程下,只需要90次左右的清洗步驟就可以達到較好的良率。但是在下一代65nm工藝節(jié)點時,清洗步驟增加到140步左右。到22nm/20n節(jié)點,清洗步驟增加到210次左右。進入到5nm先進制程,清洗的次數(shù)要求則更高。

事實上,眾多頭部半導體企業(yè)已經(jīng)意識到提升資源利用率的重要性。在臺積電最新公布的“臺積公司110年永續(xù)報告書”中提到,2021年臺積電持續(xù)推動“提升系統(tǒng)產(chǎn)水率、廠務系統(tǒng)排水減量、增加廠務廢水回收、降低系統(tǒng)排水損失”四大節(jié)水措施,積極尋求節(jié)水機會點,以達最大節(jié)流效益,在2021年節(jié)水248萬噸。

高頻科技領(lǐng)先超純工藝助半導體企業(yè)降本增效

目前,高頻科技目前已經(jīng)完全掌握了先進半導體制程需要使用的超純水生產(chǎn)的全部核心工藝,特別是在PPB級別的TOC,溶解氧去除,以及PPT級別的硼、硅等特殊物質(zhì)的去除方面有自己的成熟經(jīng)驗,通過技術(shù)把控和工程實踐,從工藝層面幫助半導體企業(yè)提升超純水使用效率。

作為半導體產(chǎn)業(yè)鏈上極為重要的一環(huán),高頻科技也積極探索,基于多年的半導體水系統(tǒng)經(jīng)驗積累,植入綠色工廠理念,為客戶提供領(lǐng)先的超純水與循環(huán)再生解決方案及裝備,助力半導體企業(yè)提升水資源利用率。

基于提質(zhì)增效和環(huán)境責任的內(nèi)外部雙重驅(qū)動,越來越多的半導體客戶也逐漸重視超純水及循環(huán)再生系統(tǒng)的運行成本和智能運維水平的提升。因此,高頻科技未來還將在結(jié)合人工智能、大數(shù)據(jù)和云計算基礎(chǔ)上的智慧廠務工廠建設(shè)中提供整體解決方案,也將在工廠運維方面提供除傳統(tǒng)方式外的更多選項,助力半導體企業(yè)取得更大的行業(yè)領(lǐng)先。

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