超純水助芯片良品率攀升，高頻科技賦能半導(dǎo)體高質(zhì)量發(fā)展

由于晶圓生產(chǎn)耗水量巨大,所以晶圓制造較為集中的城市必定遍布長江、太湖和運(yùn)河水系。一個(gè)生產(chǎn)40K晶圓的大型Fab工廠,每天投產(chǎn)用水高達(dá)1.82萬噸,接近一個(gè)6萬人口的小型城鎮(zhèn)一天用水量。

在晶圓制程中所需的零配件上會殘存細(xì)微分子,需要成噸的超純水反復(fù)清洗,整個(gè)清洗循環(huán)過程約占芯片制造整體工序步驟的30%以上,是芯片制造工藝步驟占比最大的工序。如果清潔參數(shù)無法達(dá)標(biāo),遺留的超微細(xì)顆粒污染物、金屬殘留、有機(jī)物、光阻掩膜等將成為污染源,邁入高階制程后,易導(dǎo)致后續(xù)工藝失敗、電學(xué)失效,最終造成芯片報(bào)廢,直接拉低整條生產(chǎn)線的良品率,給廠商造成巨額經(jīng)濟(jì)損失。

超純水純凈工藝為高良品率關(guān)鍵因子

對于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言,超純水的純度是確保高效生產(chǎn)的基石之一,工藝的先進(jìn)性和穩(wěn)定性直接影響產(chǎn)品的質(zhì)量和生產(chǎn)效率,與產(chǎn)品良率及經(jīng)濟(jì)效益密切關(guān)聯(lián),更是下游客戶選擇合作方的關(guān)鍵指標(biāo)。

高度提純的超純水幾乎不導(dǎo)電,不會影響電子產(chǎn)品的性能,同時(shí)水中不含金屬離子,也可避免對復(fù)雜芯片表面造成劃痕或者不可逆的影響。假若因?yàn)槌兯兌炔贿_(dá)標(biāo),在晶圓制造環(huán)節(jié)中有污染物未能完全清除,輕則影響晶圓良率,重則導(dǎo)致成批晶圓報(bào)廢。數(shù)據(jù)上1%的良品率變化,對于一個(gè)高產(chǎn)能工廠將意味著是上億的利潤損失,甚至讓整座晶圓廠停擺。

而超純水純度制備技術(shù)一直是行業(yè)攻克難關(guān),影響產(chǎn)品良率的雜質(zhì)濃度包括:有機(jī)物(TOC)、顆粒物、細(xì)菌、金屬和陰離子,尤其超純水中的硼含量始終難以達(dá)到極低的標(biāo)準(zhǔn),作為硅的“摻雜劑”,“摻雜”過程中,將硼原子引入硅晶體中,雖然可以改變硅晶體的電氣特性,但也不可避免地影響了硅襯底的導(dǎo)電性。因此超純水中無限降低硼的含量對半導(dǎo)體的制造過程至關(guān)重要。

掌握核心工藝 高頻科技提供“芯”保障

高頻科技專注半導(dǎo)體高端制造業(yè),擁有二十多年的歷史與技術(shù)沉淀,為半導(dǎo)體高端制造等行業(yè)客戶提供領(lǐng)先的超純水與循環(huán)再生解決方案及裝備。經(jīng)過不斷的更迭進(jìn)步,已經(jīng)掌握了先進(jìn)半導(dǎo)體制程所需的超純水全部核心工藝。

“目前,超純水雜質(zhì)濃度解決方案有了突破進(jìn)展,特別是在PPB級別的TOC,溶解氧去除,以及PPT級別的硼、硅等特殊物質(zhì)的去除方面。通過過硬的技術(shù)把控力和工程實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),針對有機(jī)物(TOC)、顆粒物、細(xì)菌、金屬和陰離子等影響良率的主要雜質(zhì),已經(jīng)實(shí)現(xiàn)領(lǐng)先于行業(yè)的技術(shù)成果,產(chǎn)水水質(zhì)接近絕對純度,電導(dǎo)率無限接近18.24MΩ•厘米的理論極限值,其純度可達(dá)99.9999999999%。”高頻科技總經(jīng)理丘文濤表示。

為提升工業(yè)用水效能,高頻科技依托自有優(yōu)秀半導(dǎo)體水系統(tǒng)專家,在確保超純水水質(zhì)純度穩(wěn)定達(dá)標(biāo)的基礎(chǔ)之上,研發(fā)交付了超過30種可選回用水工藝技術(shù),包括砂濾及碳濾器反洗水回用、砂濾及碳濾器正沖水回用、反滲透濃縮水回用、EDI和UF濃縮水回用、反滲透沖洗水回用、冷卻塔排放水回用、低濃度有機(jī)廢水回用等,已實(shí)現(xiàn)水制程回收率達(dá)75%-90%,讓每一滴超純水都可以循環(huán)再利用。

高頻科技將在超純工藝上持續(xù)深耕,加強(qiáng)創(chuàng)新,與領(lǐng)先的材料和設(shè)備供應(yīng)商密切合作,為客戶提供高價(jià)值、高效益的解決方案,最大限度提升超純水水質(zhì)指標(biāo),助力企業(yè)降本增效,賦能半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)不斷向精細(xì)化制程邁進(jìn)。

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